閃耀光柵加工工藝是制備高性能衍射光柵的核心技術，通過在基底材料表面刻蝕出具有特定傾角的周期性鋸齒狀溝槽，實現光能量的定向集中，兼具高衍射效率、精準波長選擇、工藝可控性強等特點，廣泛應用于光譜分析、激光技術、天文觀測等光學領域，是突破傳統光柵性能局限的關鍵工藝。?

　　高衍射效率與定向聚光是其核心技術優勢。傳統平面光柵存在光能量分散于各衍射級次的問題，而閃耀光柵加工工藝通過精確控制溝槽的閃耀角（通常為1°-30°），將80%以上的光能量集中到特定衍射級次，大幅提升光的利用率。在光譜儀中，采用該工藝制備的閃耀光柵可顯著增強目標波長的信號強度，使微量物質的光譜檢測更靈敏；在激光調諧系統中，通過優化閃耀角設計，能實現特定波長激光的高效輸出與精準調控。?
 

　　多工藝適配與高精度控制彰顯技術實力。根據基底材料（玻璃、金屬、半導體）與應用需求的不同，閃耀光柵加工工藝可分為機械刻劃法、全息光刻-離子束刻蝕法、激光直寫法等。機械刻劃法通過金剛石刀具在基底上逐線刻劃，溝槽精度可達納米級，適用于制備大尺寸光柵；全息光刻-離子束刻蝕法利用干涉條紋形成光刻圖案，再通過離子束定向刻蝕形成閃耀結構，適合批量生產高精度光柵。兩種工藝均能實現溝槽周期（0.5μm-100μm）與閃耀角的精準控制，誤差可控制在0.1°以內。?

　　復雜環境適應性拓展應用邊界。通過該工藝制備的閃耀光柵，表面可鍍制鋁、金等金屬膜或介質膜，增強耐磨性與抗腐蝕性能，適配高溫、高濕度等嚴苛工作環境。在天文望遠鏡的光譜儀中，金屬膜閃耀光柵能承受太空環境的輻射與溫度波動；在工業在線檢測設備中，介質膜閃耀光柵可抵御粉塵與化學氣體侵蝕，保證長期穩定運行。?