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UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備

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簡要描述：UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。可實現4英寸以下基底面積上高精度（優于10nm * ）、高深寬比（優于10比1 * ）納米結構壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發，器件原型快速驗證，納米壓印材料測試等研發。

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UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。可實現4英寸以下基底面積上高精度（優于10nm * ）、高深寬比（優于10比1 * ）納米結構壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發，器件原型快速驗證，納米壓印材料測試等研發。它沿用天仁微納量產型納米壓印設備的工藝與材料體系，在UniPrinter上開發的工藝可以無障礙轉移到天仁微納其它量產設備上進行生產。

UniPrinter納米壓印設備適用于DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED等應用領域的研發。

UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備主要功能

● 沿用天仁微納量產型納米壓印設備的工藝與材料體系，開發的工藝可以無障礙轉移到量產設備上進行生產

● 直徑100mm以下面積高精度、高深寬比納米壓印

● 設備內自動復制柔性復合工作模具

● 自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程無需人工干預

● 標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>300mW/cm2 ），支持各種納米壓印材料

● 隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到高質量的納米壓印水平

兼容基底尺寸	直徑≤100mm
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
納米壓印技術	適合高精度、高深寬比納米結構壓印
壓印精度	優于10納米*
結構深寬比	優于10比1*
殘余層控制	可小于10nm*
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強>300mW/cm2
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復制	支持
上下片方式	手動上下片

UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備

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